Technologie & géopolitique
ASML acculé :
Le verrou hollandais sur les puces se fissure
Le groupe néerlandais détenait un monopole mondial sur les machines de lithographie de pointe. La Chine, longtemps tenue à distance par les restrictions occidentales, s'approche désormais de la même technologie.
ASML n'a jamais eu de concurrent sérieux. Le groupe néerlandais conçoit seul, depuis deux décennies, les systèmes de lithographie par ultraviolet extrême (EUV) qui gravent les circuits les plus fins sur les puces les plus avancées.
Un monopole quasi total sur l'EUV et près de 88 % de part de marché sur le segment DUV Immersion, jamais sérieusement contesté jusqu'ici.
Toute la stratégie occidentale de restriction technologique envers Pékin reposait sur ce verrou.
Ce verrou vient de se fissurer sur deux fronts à la fois. D'abord la DUV : une société chinoise basée à Shanghai, soutenue par l'État, a entamé une fabrication en série de machines de gravure par ultraviolet profond en immersion, avec une livraison prévue à des fondeurs comme SMIC, Hua Hong et CXMT. Ensuite l'EUV elle-même.
Un premier prototype chinois, dévoilé en juillet à Shenzhen, a généré pour la première fois une lumière UV de 13,5 nanomètres — la signature même de la technologie d'ASML.
Si Pékin et la société SMEE parvient à graver l'essentiel de ses puces avec des outils fabriqués sur son propre sol, les restrictions américaines et néerlandaises perdent une bonne partie de leur portée, quand bien même l'EUV resterait, pour quelques années encore, hors de portée chinoise.
Le rapport de force
ASML : monopole EUV, ~88 % du marché DUV Immersion, 5 150 fournisseurs dont 80 % en Europe.
Chine : production DUV en série visée dès 2026 (5 machines), prototype EUV à Shenzhen (juillet 2026).
Riposte occidentale : le MATCH Act, déposé en avril 2026, étend les restrictions à l'ensemble des équipements DUV par immersion.
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